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黄璐; 刘梅军; 杨冠军;
西安交通大学金属材料强度国家重点实验室;
等离子-物理气相沉积(PS-PVD); 输运行为; 沉积机理; 结构调控;
机译:等离子体喷射物理气相沉积(PS-PVD)中基板边界层成核和生长的条件(PS-PVD)
机译:通过等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)和超声空气等离子喷涂(SAPS)制备的管状不对称La_(0.6)Sr_(0.4)Co_(0.2)Fe_(0.8)O_(3-δ)输氧膜
机译:柱状结构ysz涂层在等离子体喷雾物理气相沉积中的生长机制研究(PS-PVD)
机译:通过等离子体喷涂物理气相沉积(PS-PVD)和超音速气体等离子体喷涂(SAPS)制备的管状不对称LA_(0.2)CO_(0.2)Fe_(0.2)Fe_(0.2)Fe_(0.8)O_(3-δ)氧气转运膜(PS-PVD)和超音速气体等离子体喷涂(SAP)
机译:硅基材料的等离子体增强化学气相沉积中的表面相互作用和沉积机理的研究
机译:通过增强等离子喷涂物理气相沉积过程中的歧化反应瞬间形成用于高容量锂离子电池的SiOx纳米复合材料
机译:用等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)工艺沉积热障涂层系统-研究工艺和所产生的层
机译:用于保护涂层的陶瓷的等离子喷涂 - 物理气相沉积(ps-pVD)
机译:通过等离子体喷雾物理气相沉积沉积的导电高韧性氧化物(PS-PVD)
机译:硫属化物材料层的物理气相沉积的方法和相变存储器件的硫属化物材料层的物理气相沉积的室
机译:等离子体增强化学气相沉积和物理气相沉积的材料涂层薄膜及在材料上涂覆薄膜的方法
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