首页> 中文期刊> 《应用化学》 >二硫化钼量子点/还原氧化石墨烯复合材料的制备及其光催化降解有机染料、四环素和Cr(Ⅵ)

二硫化钼量子点/还原氧化石墨烯复合材料的制备及其光催化降解有机染料、四环素和Cr(Ⅵ)

         

摘要

以钼酸钠、L-半胱氨酸和氧化石墨烯为原料,采用一锅溶剂热还原法制备了二硫化钼量子点/还原氧化石墨烯(MoS_(2)QDs/rGO)复合材料,分别以罗丹明B、亚甲基蓝、四环素和Cr(Ⅵ)为目标污染物,研究了复合材料的可见光响应光催化降解性能。结果显示,MoS_(2)QDs/rGO对两种染料和Cr(Ⅵ)的光催化降解率均可达97%以上,对四环素的光催化降解率为69%;循环使用10次,对目标染料的降解率均保持在90%以上。说明MoS_(2)QDs/rGO具有良好的催化活性和稳定性。在降解体系中分别加入异丙醇、对苯醌和乙二胺四乙酸二钠捕获剂,结果显示,超氧自由基(·O_(2))是MoS_(2)QDs/rGO光催化反应的主要活性物种。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号