一种牺牲层工艺中金属电极保护方法研究∗

著录项

• 来源
  《电子器件》 |2017年第1期|1-5|共5页
• 作者

  张照云; 唐彬; 彭勃; 陈颖慧; 熊壮; 苏伟;

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• 作者单位

  中国工程物理研究院电子工程研究所;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院超精密加工重点实验室;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院电子工程研究所;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院超精密加工重点实验室;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院电子工程研究所;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院超精密加工重点实验室;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院电子工程研究所;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院超精密加工重点实验室;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院电子工程研究所;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院超精密加工重点实验室;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院电子工程研究所;

  四川 绵阳621999;

  中国工程物理研究院超精密加工重点实验室;

  四川 绵阳621999;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  微电子机械系统; 微加速度计; 牺牲层刻蚀; 金属电极保护;