65nm的互连线工艺灵敏度分析

蒋立飞; 孙玲玲; 周磊

首页> 中文期刊> 《电子器件》 >65nm的互连线工艺灵敏度分析

65nm的互连线工艺灵敏度分析

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

集成工艺尺寸的不断缩小使得工艺偏离效应(process variation)成为实现集成电路高成品率设计的关键.本文通过互连线工艺灵敏度分析来探讨工艺偏离效应问题.首先利用TCAD软件仿真单变量试验样本,对仿真样本数据统计3-σ值,定性分析灵敏度关系.然后用最小二乘法拟合曲线,定量分析65nm的互连线工艺灵敏度.分析结果表明互连线寄生参数随互连线宽度变化最为显著.

著录项

来源
《电子器件》 |2008年第3期|780-782785|共4页
作者
蒋立飞; 孙玲玲; 周磊;
展开▼
作者单位

杭州电子科技大学微电子CAD所,杭州,310018;

杭州电子科技大学微电子CAD所,杭州,310018;

杭州电子科技大学微电子CAD所,杭州,310018;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类设计;
关键词
工艺偏离; 互连线; 灵敏度; TCAD; 统计试验设计;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 一种65nm CMOS互连线串扰分布式RLC解析模型(英文) [J] . 朱樟明 ,钱利波 ,杨银堂 . 半导体学报：英文版 . 2008,第3期
2. 基于微分求积法的互连线灵敏度分析 [J] . 吉小鹏 ,葛龙 ,王执铨 . 信息与控制 . 2008,第5期
3. 高速集成电路互连线结构的时域波形灵敏度分析 [J] . 李新 ,李征帆 . 上海交通大学学报 . 1997,第6期
4. 联电2008年65nm工艺比重可超90nm工艺 [J] . . 微纳电子技术 . 2006,第12期
5. FSI国际PlatNiStrip镍铂薄膜工艺经过验证，应用于65nm生产工艺 [J] . . 微纳电子技术 . 2006,第3期
6. 基于横向截断波形松弛法的互连线灵敏度分析 [C] . Tang Min ,唐旻 ,Lu Jiaqing . 2013年全国微波毫米波会议 . 2013
7. 基于65nm CMOS工艺集成电路标准单元单粒子效应加固技术研究 [A] . 刘畅咏 . 2019

65nm的互连线工艺灵敏度分析

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅