温度对硅纳米薄膜杨氏模量的影响

著录项

• 来源
  《电子器件》 |2007年第3期|755-758|共4页
• 作者

  谭一云; 于虹; 黄庆安; 刘同庆;

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• 作者单位

  东南大学,MEMS教育部重点实验室,南京,210096;

  东南大学,MEMS教育部重点实验室,南京,210096;

  东南大学,MEMS教育部重点实验室,南京,210096;

  东南大学,MEMS教育部重点实验室,南京,210096;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 O472.1;
• 关键词

  杨氏模量; 硅{100}表面; (2×1)dimer重构; 分子动力学;