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高氯酸铵脱除介孔氧化硅有机模板剂

         
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采用AP-HNO3组成的体系在低温(100 ℃左右)下快速完全地分解介孔氧化硅材料(SBA-15)的模板剂,得到开放孔道的SBA-15(N-SBA-15).透射电镜(TEM)照片显示,N-SBA-15具有高度有序的二维六方结构(p6mm).与焙烧产物(C-SBA-15)的孔容(1.03 cm3 ·g-1)和孔径(6.5 nm)相比,N-SBA-15具有较大的孔容(1.40 cm3·g-1)和孔径(10.4 nm).小角XRD谱图表明N-SBA-15没有明显的骨架收缩,红外光谱(FT-IR)显示其孔道表面存在大量硅羟基.与C-SBA-15相比,N-SBA-15只有很少的微孔孔容.因此,AP氧化是一种条件温和的获取高质量多孔氧化硅阵列材料的有效手段,它也适用于多种具有不同对称性介孔氧化硅(如Fm3m,Im3m,la3d等结构)模板剂的脱除.

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