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秦利军; 龚婷; 闫宁; 李建国; 惠龙飞; 郝海霞; 冯昊;
西安近代化学研究所 陕西西安710065;
西安近代化学研究所燃烧与爆炸技术重点实验室 陕西西安710065;
应用化学; 原子层沉积(ALD); 分子层沉积(MLD); 含能材料; 表面性质; 表面修饰;
机译:原子层沉积技术在含能材料表面修饰中的应用研究进展
机译:石墨烯在含能材料中的应用研究进展
机译:原子层沉积法修饰ZnO纳米粒子修饰的HfO2 / Sn掺杂的In2O3核壳纳米线:通过表面修饰工程增强场发射行为
机译:用原子层沉积沉积的V_2O_5薄膜中电化学锂插入期间的振动修饰(ALD)
机译:通过原子层沉积制备银催化剂以及使用Operando表面增强拉曼光谱研究原子层沉积反应。
机译:通过原子层沉积修饰富镍FCG NMC和NCA阴极:防止高压锂离子电池的表面相变
机译:由薄膜中的表面分离引起的电子结构修饰在薄膜中的表面偏析引起的电子结构修饰在薄膜中的表面分离引起的电子结构修饰
机译:数据融合技术在路面无损检测中的应用研究进展。 (9月2日至8月4日)
机译:降低含能材料点火敏感性的方法,形成具有降低了点火敏感性的含能材料的方法以及相关的含能材料
机译:修饰表面的方法,具有修饰的表面的元素,具有修饰的表面的元素的制造方法,用于处理表面以使修饰的表面变质的液体以及用于表面处理的液体的制造方法。
机译:修饰表面的方法,具有修饰表面的制品,具有修饰表面的制品的制备方法,形成修饰表面的表面处理液以及制备表面处理液的方法
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