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近平滑念珠菌的形态转换观察

     

摘要

目的 观察近平滑念珠菌在不同培养基的形态转换现象,以及温度对其形态转换的影响.方法 收集近平滑念珠菌正常人皮肤携带株及临床致病株和标准株,接种于改良Lee培养基和含桃红B的YPD培养基,观察其不同形态转换,以及温度变化对光滑(W)与皱褶(O)形态转换的影响.结果 近平滑念珠菌在Lee培养基和含桃红B的YPD培养基上,均可以出现多种形态以及一定频率W-O转换现象.在观察W向O形态转换过程中发现,与25℃培养温度相比,37℃条件下光滑菌落形态占更多的比例.结论 近平滑念珠菌体外培养时存在形态转换及W-O转换现象,且于37℃时更易保持光滑形态.含桃红B的YPD培养基也可以用于基本的W-O形态转换观察.

著录项

  • 来源
    《中国真菌学杂志》|2010年第2期|87-91|共5页
  • 作者单位

    中国医学科学院北京协和医学院皮肤病研究所真菌科,南京,210042;

    中国医学科学院北京协和医学院皮肤病研究所真菌科,南京,210042;

    中国医学科学院北京协和医学院皮肤病研究所真菌科,南京,210042;

    中国医学科学院北京协和医学院皮肤病研究所真菌科,南京,210042;

    中国医学科学院北京协和医学院皮肤病研究所真菌科,南京,210042;

    中国医学科学院北京协和医学院皮肤病研究所真菌科,南京,210042;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 念珠菌;
  • 关键词

    念珠菌; 近平滑; 形态转换; 光滑; 皱褶;

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