CMP流场的数值模拟及离心力影响分析

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• 来源
  《力学学报》 |2008年第6期|729-734|共6页
• 作者

  高太元; 李明军; 胡利民; 高智;

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• 作者单位

  湘潭大学数学与计算科学学院;

  湘潭;

  411105;

  中国科学院力学研究所LHD实验室;

  北京;

  100085;

  湘潭大学数学与计算科学学院;

  湘潭;

  411105;

  四川大学建筑与环境学院;

  成都;

  610065;

  中国科学院力学研究所LHD实验室;

  北京;

  100085;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 机械摩擦、磨损与润滑;
• 关键词

  化学机械抛光; 离心力; 润滑方程; 压力分布; Chebyshev加速超松弛技术;