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Compositional and Structural Properties of TiO2-xNx Thin Films Deposited by Radio-Frequency Magnetron Sputtering

         

摘要

TiO2-xNx 薄电影被劈啪作响的 rfmagnetron 扔到 Si (100 ) 和石英底层上在 Ar, N-2,和 O-2 气氛把一个钛金属磁盘用作一个目标的方法。底层温度在 300 度 C 被保留。O-2 和 Ar 煤气的流动率被坚守是常数和 N 煤气的流动率被改变。有不同 N 内容的 TiO2-xNx 电影被X光衍射和结果显示的X光光电子光谱学描绘 TiO2-xNx 薄电影能在13% N 和15% N 被获得,这在这部电影满足,并且有混合 TiO2 和听水晶的电影能在这部电影在13% N 和15% N 内容被获得。以 X 光光电子光谱学的结果, beta-N (396eV ) 的 N 1s 是在 theTiO2-xNx 的主要部件薄电影。因为精力水平在上在原子价乐队最大值 ofTiO2 上面被放,有效光精力的差距从 2.8 eV 减少(为一样扔的纯 TiO2 电影 rf 劈啪作响系统) 到 2.3 eV,它被光吸收的系列验证。

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