Effects of Substrate Temperature and Vacuum Annealing on Properties of ITO Films Prepared by Radio-Frquency Magnetron Sputtering

著录项

• 来源
  《中国物理快报：英文版》 |2010年第10期|P.213-216|共4页
• 作者

  N. Boonyopakorn; N. Sripongpun; C. Thanachayanont; S. Dangtip;

  展开▼
• 作者单位

  of;

  Physics,;

  Mahidol;

  University,;

  Bangkok;

  10400,;

  Thailand;

  Metal;

  and;

  Materials;

  Technology,;

  Klongluang,;

  Prathumthani;

  10120,;

  Thailand;

  for;

  Nanoscience;

  and;

  Nanotechnology,;

  Mahidol;

  University,;

  Bangkok;

  10400,;

  Thailand;

  展开▼
• 原文格式 PDF
• 正文语种 CHI
• 中图分类 薄膜的生长、结构和外延;
• 关键词

  ITO薄膜; 射频磁控溅射; 真空退火; 衬底温度; 性能改进; 溅射制备; 无线电; 晶体结构;

  机译：ITO薄膜;射频磁控溅射;真空退火;衬底温度;性能改进;溅射制备;无线电;晶体结构;