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胡令; 孙玉平; 王波; 罗轩; 盛志高; 朱雪斌; 宋文海; 杨昭荣; 戴建明;
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转变温度; 绝缘体; 金属; 薄膜; 可见光; 调制; 三甲基铟; 生长性能;
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