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磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析

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摘要

利用变分累计展开方法,分析了Heisenberg磁性薄膜的自发磁化强度到三级累积展开.结果表明:自发磁化强度依赖于薄膜的层数.在某一临界厚度以下,自发磁化强度随薄膜原子层数的减小而迅速减小,其结果与实验数据接近.

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来源
《重庆文理学院学报（自然科学版）》 |2004年第4期|18-20|共3页
作者
周亚非;
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作者单位

渝西学院,物理学与电子信息工程系,重庆,永川,402168;

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正文语种 chi
中图分类薄膜测量与分析;
关键词
Heisenberg薄膜; 自发磁化强度; 变分累计展开;

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