测量溶液晶体生长速率用的光学外差干涉技术

YongkeeKin; 唐永滋

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非接触性光学外差技术可原地测量溶液中的晶体生长速率。采用波长为633nm，总输出功率为1mW（每个偏振分量为0.5mW)的双频率塞曼激光器，该激光器具有两个彼此共线而又正交偏振的频率v1和v2，它们准确相融250kHz。，系统的灵敏度确定为0.77nm ,比0.065nm的理论分辨率大，因为存在着与振动相关的噪声。针对监视溶液晶体生长的外差技术的关键因素进行的研究表明，当溶液温度为28.2℃，晶种温度为26.0℃时，L精氨酸磷酸盐晶体的生和速率为6.15±0.13nm/s(0.53mm/天）。这是运用外差技术进行实时、原地测量晶体生长速率的首次实验。

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来源
《云光技术》 |2002年第1期|32-39|共8页
作者
YongkeeKin; 唐永滋;
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作者单位

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 O782.1;
关键词
晶体生长速率; 光学外差技术; 相位变化; L－精氨酸磷酸盐; 溶液晶体生长;

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