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周国全;
武汉大学物理科学与技术学院 湖北武汉 430072;
光学干涉; 干涉条件; 干涉条纹; 正三角形光学腔; 双光束;
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机译:利用双光束干涉和紫外纳米压印光刻技术形成抗反射膜的杂化聚合物纳米结构
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机译:一种低噪声高温超导量子干涉装置。
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