低压力铜化学机械抛光集散控制系统

著录项

• 来源
  《计算机集成制造系统》 |2010年第12期|2653-2660|共8页
• 作者

  门延武; 张辉; 周凯; 叶佩青;

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• 作者单位

  清华大学摩擦学国家重点实验室;

  北京;

  100084;

  清华大学摩擦学国家重点实验室;

  北京;

  100084;

  清华大学摩擦学国家重点实验室;

  北京;

  100084;

  清华大学摩擦学国家重点实验室;

  北京;

  100084;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 自动信息理论;
• 关键词

  化学机械抛光; 运动控制; 网络化递阶系统; 分布式执行; 可编程自动控制器;