钛硅碳颗粒含量对TC4合金微弧氧化层的影响

谷高扬; 商剑; 李琳

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钛硅碳颗粒含量对TC4合金微弧氧化层的影响

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本文采用Na_(2)WO_(4)+Na_(2)SiO_(3)+Na_(3)PO_(4)电解液,采用恒流模式在TC4合金基体上制备了微弧氧化层,研究了不同添加浓度钛硅碳颗粒(2~8 g/L)对陶瓷层表面形貌、组织结构、摩擦曲线的影响。结果表明:电解液中钛硅碳浓度对氧化陶瓷层表面形貌、物相组成影响较小,同时添加钛硅碳增强了电解液的电导率,改善降低了起弧电压,有利于陶瓷层的厚度增加,同时减小摩擦。实验中,4 g/L时陶瓷层表面质量最好,8 g/L时减磨性最好。

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来源
《轻金属》 |2023年第2期|46-51|共6页
作者
谷高扬; 商剑; 李琳;
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作者单位

辽宁工业大学材料科学与工程学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类轻金属冶炼;各种工业的腐蚀及防腐新方法;
关键词
微弧氧化; TC4; Ti 3SiC 2; 耐腐蚀;

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