射频非平衡磁控溅射WS_2薄膜的结构及其摩擦学性能研究

孔良桂; 徐书生; 郝俊英

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射频非平衡磁控溅射WS_2薄膜的结构及其摩擦学性能研究

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采用射频非平衡磁控溅射技术制备了具有不同(002)择优取向程度的WS2薄膜,研究了Ar流量对薄膜成分、微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响.研究表明:随Ar流量的增大,WS2薄膜的S/W原子比和(002)衍射峰强度均表现出先降低后升高的变化趋势,而硬度和弹性模量表现出先升高后降低的变化趋势.在大气环境下,WS2薄膜的(002)择优取向程度、S/W原子比以及硬度对薄膜的摩擦学性能均具有显著影响,当S/W原子比较低、(002)择优取向度弱、硬度较高时,薄膜脆性较大,易于发生润滑失效;当S/W原子比、(002)择优取向度和硬度均较高时,薄膜结构致密,且摩擦过程中在对偶表面易于形成有效的转移膜,薄膜表现出较好的减摩、抗黏着特性和优异的抗磨性能.

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来源
《摩擦学学报》 |2015年第4期|386-392|共7页
作者
孔良桂; 徐书生; 郝俊英;
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作者单位

中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室;

中国科学院大学;

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正文语种 chi
中图分类 TH117.3;
关键词
非平衡磁控溅射; WS2薄膜; 晶体取向; 摩擦学性能;

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