真空干燥参数对TFT栅极光刻性能的影响

著录项

• 来源
  《半导体光电》 |2021年第4期|504-510|共7页
• 作者

  刘丹; 黄晟; 黄中浩; 刘毅; 陈启超; 吴旭; 吴良东; 闵泰烨; 王灿; 樊超; 张淑芳; 方亮;

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• 作者单位

  重庆京东方光电科技有限公司;

  重庆400700;

  重庆大学物理学院;

  重庆400044;

  中国科学院大学重庆学院;

  重庆400714;

  重庆大学计算机学院;

  重庆400044;

  重庆电子工程职业学院;

  重庆401331;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 TN321.5;
• 关键词

  薄膜晶体管; 栅极光刻; 减压真空干燥; 全因子实验; 关键尺寸; 坡度角;