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＜正＞ TN305.7 2003064448MEMS工艺中TMAH湿法刻蚀的研究=Research onTMAH wet etching in MEMS[刊,中]/罗元（重庆大学光电工程学院.重庆（400044））,李向东…∥半导体光电.-2003,24（2）.-127-130研究了MEMS工艺中的TMAH湿法刻蚀获得光滑刻蚀表面的工艺。实验结果表明,要获得理想的刻蚀效果,刻蚀液配方和刻蚀条件的选择是非常重要的因素,实

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《中国光学(中英文)》 |2003年第6期|68-69|共2页
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正文语种 chi
中图分类 TP211.4;
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