制膜技术与装置

         

摘要

<正>溅射时在基片下方放置磁铁,让来自基片下方的磁场发挥磁控作用,以此来研究基片下磁场磁控溅射的方法。发现辉光形貌以及沉积的薄膜厚度分布均发生明显变化的同时,辉光的外形也随着外加磁铁直径的变化而变化。运用磁荷理论对磁场分布进行模拟,解释了辉光形貌变化的机理,运用沉积粒子

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