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退火对提拉法红宝石光学性能的影响

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本文对提拉法生长的红宝石晶体采用了长时间的恒温,并以低于生长晶体时的速率缓慢降温的工艺进行中温退火,通过对晶体退火前后光学性能的对比,阐述了退火对消除晶体应力、提高晶体光学透过率以及改善光学均匀性的作用。

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来源
《人工晶体学报》 |1986年第2期|130-133|共4页
作者
杨琳; 刘福云; 殷绍唐; 赫俊卿;
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作者单位

中国科学院安徽光学精密机械研究所;

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