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＜正＞ TN305.7 20010214190.13μm集成电路制造中的光刻技术研究现状及展望=Status and prospects of lithography technologiesfor 0.1 3 μm integrated circuit manufacturing[刊,中]/郭宝增（河北大学电子信息工程学院.河北,保定（071002））//固体电子学研究与进展.—2000,20（3）.-281-290介绍了157 nm光学光刻技术、X射线光刻技术和角度限制散射电子束光刻技术的研究现状,并对它们在

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《中国光学(中英文)》 |2001年第2期|99-102|共4页
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正文语种 chi
中图分类制造工艺;
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