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＜正＞ TQ171.6 99032019定偏心锡磨盘超精密平面抛光均匀去除模拟计算（Ⅰ）=Simulation of even material removal during eccentricplane polishing by a tin polisher[刊,中]/张红霞,吴明根（超精密加工技术国防科技重点实验室.北京（100076））,高宏刚（中科院长春光机所.吉林,长春（130022））//光学精密工程.—1998,6（2）.-77-82

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《中国光学(中英文)》 |1999年第3期|89-90|共2页
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正文语种 chi
中图分类生产过程与设备;
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