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超微细加工及设备

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＜正＞ TN305 97010636 大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测-等离子发射光谱法=In situ monitoring etch processand end-point for LSI by the plasma emis-

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《中国光学(中英文)》 |1997年第1期|91-92|共2页
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正文语种 chi
中图分类大规模集成电路、超大规模集成电路;
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