光学薄膜材料及器件

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＜正＞ O484.1 96021243 C—SiC薄膜抗辐照性能的研究=Study on the irradiationbenaviour of C-SiC films[刊,中]/张海龙,夏兴源,汪德志,黄宁康（四川大学原子核科学技术研究所。四川,成都（610064））∥四川大学学报。自然科学版。—1995,32（4）。—401—405 在室温下分别采用射频磁控溅射和离子束辅助沉积技术沉积C—SiC薄膜,并进行了相同注量和相

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《中国光学(中英文)》 |1996年第2期|76-78|共3页
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正文语种 chi
中图分类 O484.41;
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