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＜正＞ O484.5 2001042763磁控溅射Ge/Si多层膜X射线低角衍射界面结构分析=Interfacial structure analysis of Ge/Si multilayer filmsfabricated by rnagnetron sputtering[刊,中]/李宏宁,毛旭,杨宇（云南大学材料科学与工程系.云南,昆明（650091））//光电子·激光.-2000,11（1）.-72-75对磁控溅射不同结构的Ge/Si多层膜样品进行了X射线衍射的测试和分析,并进一步采用有过渡层的光学多层膜衍射模型对衍射谱进行了拟合,获得了扩散层厚度和

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《中国光学(中英文)》 |2001年第4期|75-76|共2页
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正文语种 chi
中图分类 O484.41;
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