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＜正＞ TN305.7 20010429500.35μm分步重复投影光刻物镜设计=Design of 0.35μm step-and-repeat projection lighography objective[刊,中]/林妩媚,王效才（中科院光电技术研究所.四川,成都（610209））//光学学报.-2000,20（8）.-1148-1150分析了0.35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点及设计结果。图3表1参4(严

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《中国光学(中英文)》 |2001年第4期|102-103|共2页
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正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
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