镀膜技术及设备

         

摘要

<正> O484.1 96042591SiO2薄膜的制备方法与性质=The influence ofoxygen partial pressure on the properties ofSiO2 thin films[刊,中]/陈立春,姚健铨(天津大学精密仪器系.天津(300072)),王向军,徐叙瑢(天津理工学院材料物理研究所.天津(300191))∥发光学

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