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几种摄像掩膜的制法

         

摘要

<正> 随着半导体集成电路、微波集成电路、电视摄像器件、声表面波器件及各种延迟器件、滤波器件的发展,对诸器件制造工艺中的照相制版工艺提出了许多特殊的要求,本文仅就摄像掩膜制作中碰到的问题作一简单的小结。 1.此类掩膜的特点此种掩膜的图形结构初看起来和由分步重复照相而制成的精缩掩膜非常类似,也是由一个一个形状完全相同的图形组成,只是重复间距很小,通常在10μm左右;图形尺寸很精细,在20-50μm之间;要求重复精度高,在0.5μm

著录项

  • 来源
    《微电子学与计算机》 |1981年第4期|28-30|共3页
  • 作者

    陈福山;

  • 作者单位

    陕西微电子学研究所;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
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