异图分步补版研究

贾建国

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异图分步补版研究

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＜正＞一、概述随着半导体制版工艺、设备不断更新,分步重复照相——精缩中异图分步（或异图插入）应用日渐广泛。常见的异图分步有:工艺监测图形的插入;自动光刻机用以自动对准的自动符号图形的插入等。然而,仅有一块原来制做的必须更改的异图分步掩模版或对应刻出图形的硅片,要求重新制出完全与之配套的掩模版的事是经常发生的。如何才能补做出一块合格的异图分步光刻掩模版来呢?异图分步补版的关键是初缩版的复位校准,复位校准的核心则是要制做一个高精度透明辅助标尺,用它来测量,复位校准补版完全符合要求,补版误差≤0.5μm。

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来源
《微电子学与计算机》 |1986年第2期||共页
作者
贾建国;
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作者单位

延河无线电厂;

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正文语种 chi
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