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在织构Ni衬底上用电子束蒸发沉积YSZ阻挡层

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摘要

用轧制及再结晶方法制备了高度立方织构的金属Ni(镍 )基带 .采用电子束蒸发的方法在几个厘米长的Ni基带表面上生长YSZ(钇稳定二氧化锆 )阻挡层 .X射线衍射分析表明 ,YSZ层具有纯c轴取向和良好的平面内取向及立方织构 .扫描电镜观察表明 ,YSZ阻挡层连续致密无裂纹 .

著录项

来源
《低温物理学报》 |2002年第2期|92-95|共4页
作者
杨坚; 宫声凯; 舒勇华; 刘慧舟; 胡广勇; 王晓华;
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作者单位

北京有色金属研究总院超导中心;

北京航空航天大学;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
Ni衬底; YSZ阻挡层; 电子束蒸发沉积; 薄膜生长; 钇稳定二氧化锆; 立方织构; 金属镍衬底; 超导材料;

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