磁控溅射法制备As-S玻璃薄膜

顾少轩; 张林; 赵光华

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磁控溅射法制备As-S玻璃薄膜

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采用磁控溅射法在ITO导电玻璃上制备As-S玻璃薄膜,采用XRD、透可见-红外性能、扫描电镜、XPS等现代测试手段,研究薄膜的结晶形态、光学性质和成分。结果发现,利用磁控溅射方法得到了透过率较高、光学质量优良、没有明显的缺陷的As-S硫系玻璃薄膜,XPS光电子能谱结果显示薄膜As/S摩尔比为0.686,大于设计组成。

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来源
《硅酸盐通报》 |2007年第1期|84-86|共4页
作者
顾少轩; 张林; 赵光华;
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作者单位

武汉理工大学材料科学与工程学院;

中材高新材料股份有限公司;

丹江口汉江集团碳化硅公司;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类建筑用玻璃;
关键词
磁控溅射; As-S玻璃; 薄膜;

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