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君迁子休眠芽及叶片离体培养体系优化及植株再生

         

摘要

以君迁子(Diospyros lotus Linn.)休眠芽和叶片为外植体,研究基础培养基种类和外植体基因型对休眠芽初代培养的影响,比较叶片放置方式、TDZ浓度、ZT与TDZ不同浓度组合及暗培养时间对叶片愈伤组织形成和不定芽再生的影响;然后对再生芽进行生根。结果表明:君迁子休眠芽初代培养中,DKW培养基最适合其生长发育,休眠芽生长势最佳;初代培养中,不同基因型的外植体在DKW培养基中生长势基本相同,说明外植体基因型对其初代培养没有影响,但对继代培养影响较大。叶片下表面朝上放置在MS+ZT 0.1 mg/L+TDZ2.0mg/L中暗培养20d,愈伤组织形成率达100%,在(1/2N)MS+2.200 mg/L TDZ上愈伤组织形成率为81.4%;叶片下表面朝上放置在MS+ZT 1.0mg/L+TDZ 2.0mg/L中暗培养0d,不定芽再生率和外植体平均不定芽数最高,分别为34.4%和2.1±0.3。组培苗在1/2MS(1/2N)+IBA 1.0mg/L中培养5d后,转入1/2MS(1/2N)+1g/L活性炭培养20d,生根率为58.14%,平均根数为4条。

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