紫外纳米压印用PMMA转移层膜的制备及性能

董会杰; 辛忠; 陆馨

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紫外纳米压印用PMMA转移层膜的制备及性能

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以苯甲醚为溶剂,采用旋涂法制备PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)转移层膜。当PMMA的质量分数为5%、旋涂速度为2000～6000r/min时,转移层膜的厚度为90～150nm,粗糙度为0.3nm,可满足纳米压印要求。采用接触角测量仪测试计算出PMMA、PS转移层膜的表面能,并通过转移层膜与压印胶之间的粘附功和界面张力的计算,评价了PMMA、PS和Si片对压印胶的润湿和粘附性能。结果表明,PMMA膜可改善压印胶在基片上的润湿铺展性能和粘附性能,而PS膜虽能改善基片的润湿铺展性能,却不利于压印胶的粘附。

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来源
《微纳电子技术》 |2009年第9期|561-565|共5页
作者
董会杰; 辛忠; 陆馨;
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作者单位

华东理工大学化学工程联合国家重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类高聚物的物理性质;
关键词
紫外纳米压印; 聚甲基丙烯酸甲酯; 转移层膜; 压印胶; 粘附功;

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