TiAl中空位团的稳定构形及其对附近空位迁移行为的影响

王天民; 王文军; 张洪涛; 王宝义

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TiAl中空位团的稳定构形及其对附近空位迁移行为的影响

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用分子动力学方法 ,采用 Finnis- Sinclair类型的多体势 ,对 Ti Al中小尺寸空位团 (N0 =2 ,3,4)的各种可能构形进行了模拟计算 ,计算了空位团的形成能、结合能 ,分析讨论了空位团最稳定的构形 ,在此基础上 ,研究了空位团对单空位迁移的影响。计算结果表明 :在 Ti Al合金中 ,组成空位团的每个空位都尽可能地与其它空位保持最近邻关系 ,空位团附近有反位原子。当空位团较大时 ,空位团周围的原子会向空位中心塌陷 ,类似于空位团中包含有间隙原子。

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来源
《稀有金属材料与工程》 |2001年第5期|326-330|共5页
作者
王天民; 王文军; 张洪涛; 王宝义;
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作者单位

北京航空航天大学;

兰州大学物理科学与技术学院材料科学系;

中国科学院高能物理研究所;

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正文语种 chi
中图分类 TG146.23;
关键词
计算机模拟; 金属间化合物; 钛铝合金; 空位; 空位团; 迁移; 构形;

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