内表面等离子体增强化学气相沉积TiN涂层研究

机译：NH {sub} 3等离子体预处理对通过等离子体增强化学气相沉积（PECVD）制备的TiN涂层的性能的影响

机译：等离子体增强化学气相沉积法沉积多层TiN /（Ti0.5Al0.5）N涂层的结构和力学性能

机译：等离子体增强化学气相沉积法沉积纳米多层TiN / AlN涂层的制备和性能

机译：通过脉冲DC等离子体增强化学气相沉积制备的BN / TIBN / TIN多层涂层的表征

机译：硅基材料的等离子体增强化学气相沉积中的表面相互作用和沉积机理的研究

机译：He / H2 / CH4 / N2混合物的微波等离子体化学气相沉积法沉积超光滑纳米结构金刚石（USND）涂层的合成及机械磨损研究

机译：电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积技术的GaN / AlGaN Hemts钝化性能分析

机译：等离子体辅助化学气相沉积法制备m2钢表面TiN涂层

机译：等离子体增强化学气相沉积系统及等离子体增强化学气相沉积膜沉积方法

机译：热线化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积相结合的混合化学气相沉积工艺

机译：等离子体增强化学气相沉积装置和等离子体增强化学气相沉积方法