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李佳; 李德良; 莫凌;
中南林业科技大学;
硝酸; 硝酸铜; 蚀刻液;
机译:酸性硅蚀刻液的化学分析I.硝酸滴定法测定HNO3,HF和H2SiF6
机译:通过化学蚀刻工艺制造用于超薄沟槽型AT切割石英晶体谐振器的化学蚀刻工艺,以及谐振频率特性
机译:硅太阳能电池用酸性蚀刻剂通过表面锯痕蚀刻提高纹理效果的研究
机译:酸性湿化学蚀刻工艺的基本研究:HF-HNO_3-H_2O蚀刻混合物的酸化
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:使用化学蚀刻工艺对石墨烯上晶体氧化铁纳米颗粒的受控生成进行系统研究
机译:N型4H SiC中缺陷分析的共晶蚀刻工艺的研究
机译:20%硝酸蚀刻液中游离氟离子的直接估算
机译:作为蚀刻液的蚀刻工艺和硫酸铝凝结剂的废硝酸回收利用方法
机译:天然型纺织材料的蚀刻药物,蚀刻工艺方式及蚀刻加工后的天然型纺织材料
机译:硅的湿化学处理工艺,例如晶片,包括使用包含水,硝酸和氢氟酸的蚀刻液
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