首页> 中文期刊> 《高分子材料科学与工程》 >纳米SiO_2表面处理对质子交换膜热稳定性的影响

纳米SiO_2表面处理对质子交换膜热稳定性的影响

         

摘要

研究了纳米SiO2在偶联剂修饰后对质子交换膜的热稳定性及热降解动力学的影响。利用热重分析(TG—DTG)在氯气气氛中,升温速率分别为5℃、10℃和20℃的条件下,采用Kissinger、Flynn-Wall—Ozawa、Friedman和Modified Coats—Redfem方法对膜SiO2改性后的非等温动力学数据进行了分析。TG-DTG曲线显示SiO2改性后质子交换膜分解率达到10%和15%时,最低热降解温度分别为392.4℃和429.5℃,比改性前分别提高26.8℃和57.7℃。改性后质子交换膜为一步法分解,分解的温度区间为405℃~550℃,热分解的表观活化能E和指前因子lnA分别为223.110/mol和31.63min-1,分解过程属于一维扩散(D1)机理控制。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号