钛酸铋薄膜退火时间的研究

苏学军; 李岩; 张金春

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钛酸铋薄膜退火时间的研究

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采用金属有机化学气相沉积工艺和快速退火工艺 ,在硅 (10 0 )基片上制备高度择优取向的Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜 ,运用X射线衍射术分析薄膜材料的结构 ,通过测量材料的电滞回线和漏电流密度 ,研究快速退火对Bi4 Ti3 O12 薄膜电性能的影响。在优化的工艺条件下 ,Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜的剩余极化强度 (Pr)为 8μC/cm2 ,漏电流密度为 10 -11A/cm2 。

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来源
《兵器材料科学与工程》 |2002年第5期|37-39|共4页
作者
苏学军; 李岩; 张金春;
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作者单位

海军航空工程学院理化教研室;

海军航空工程学院电工教研室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TM223;
关键词
钛酸铋薄膜; 退火时间; 铁电薄膜; 金属有机化学气相沉积; X射线衍射;

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