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祁慧; 高勇; 安涛;
西安理工大学电子工程系;
Si1-x-yGexCy合金半导体技术; 硅锗碳三元化合物; 半导体材料; 应变补偿; 场效应晶体管; 异质结晶体管; 光电子器件;
机译:应变Si_(1-x)Ge_x,Si_(1-x-y)Ge_xC_y和Si_(1-y)C_y合金材料-器件应用中的镍硅化技术
机译:通过乙烯化学气相沉积法在Si上生长Si_(1-x-y)Ge_xC_y合金层
机译:Si_(1-x-y)Ge_xC_y合金中铜的扩散和电活性
机译:通过低压化学气相沉积的Si / Si_(1-X-Y)Ge_xc_y / Si异质结构中Si和Si_(1-X-Y)Ge_xc_y层的应变控制
机译:半导体合金技术中的温度梯度。
机译:Schrödinger方程在Cu2ZNSNS4季半导体合金量子阱中的应用
机译:半导体的钝化技术。通过新型界面控制技术的化合物半导体的表面钝化及其在量子结构中的应用。
机译:si(1-x-y)Ge(x)C(y)合金的带偏移和红外探测器应用
机译:用于半导体存储设备的冗余技术的应用元件以及包含该冗余技术的半导体存储设备的生产过程
机译:应用于半导体光刻技术的掩模,以及光刻技术方法
机译:使用基于气相化学侵蚀的多孔硅制造技术对硅进行蚀刻的技术及其应用,特别是在半导体组件或组件的生产中。
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