青铜文物表面腐蚀产物的组成及深度分布研究

王菊琳; 许淳淳; 于淼

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青铜在模拟环境介质中的循环伏安实验及XRD测试结果表明,氧化过程主要为生成有害锈CuCl的过程,还原过程主要为CuCl还原成纯铜晶粒的过程,并且反应电流较大,对青铜基体的破坏性较大.运用高性能二次离子质谱(SIMS)观测到不同腐蚀电位下青铜表面腐蚀产物中均含有Cu、Sn、Cl、O、C、S元素,阴离子相对含量由大到小为Cl、O、C、S;腐蚀产物层由表及里Cu/Sn值始终小于合金中Cu/Sn,并且Cu离子含量基本不变,Sn离子含量有起伏,Cl、O离子含量有所下降.

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来源
《中国腐蚀与防护学报》 |2005年第3期|163-166|共4页
作者
王菊琳; 许淳淳; 于淼;
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作者单位

北京化工大学;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类腐蚀的控制与防护;
关键词
二次离子质谱; 青铜文物; 环境; 腐蚀;

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