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薄膜X射线应力分析技术的研究

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摘要

由于Ｘ射线薄膜衍射几何的特点，致使薄膜Ｘ射线应力分析的精度很难达到常规应力分析水平．本研究采用真空光阑、内标校正的途径来提高薄膜Ｘ射线应力分析的精度．同时，为了测定薄膜生长过程中的生长应力，文中还介绍了高温薄膜应力分析的技术．

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来源
《上海交通大学学报》 |1994年第6期|52-58|共7页
作者
杨于兴; 胡赓祥;
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作者单位

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正文语种 chi
中图分类薄膜测量与分析;
关键词
薄膜; X射线衍射; 生长应力; 氧化膜;

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