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缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤阈值的影响

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摘要

采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm,532nm二倍频增透膜.利用Lambda900分光光度计和调Q脉冲激光装置对样品的光学性能和抗激光损伤性能进行了测试分析.结果表明,所有样品在1064nm和532nm波长的剩余反射率都分别小于0.1%和0.2%.与无缓冲层样品相比,采用SiO2和MgF2缓冲层薄膜的激光损伤阈值分别提高了23.1%和25.8%,而Al2O3缓冲层的插入却导致薄膜的激光损伤阈值降低.通过观察薄膜的激光损伤形貌,分析破斑的深度信息和电场分布,表明LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤破坏主要表现为膜层剥落,激光产生的热冲击应力使薄膜应力发生很大变化,超过膜层之间的结合而引起膜层之间的分离.采用SiO2或MgF2缓冲层可改进Al2O3膜层的质量,从而有利于提高薄膜的激光损伤阈值.

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来源
《光子学报》 |2009年第10期|2613-2617|共5页
作者
谭天亚; 于撼江; 吴炜; 郭永新; 范正修; 邵建达;
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作者单位

辽宁大学物理学院;

沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室;

中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 O484.41;
关键词
光学薄膜; 二倍频增透膜; LBO晶体; 激光损伤阈值; 缓冲层;

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