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高雪艳; 钟强; 李晓静; 黑鸿君; 高洁; 申艳艳; 贺志勇; 刘小萍; 于盛旺;
太原理工大学表面工程研究所;
中国兵器科学研究院宁波分院;
金刚石自支撑膜; 双辉等离子表面冶金技术; W金属层; 元素扩散;
机译:双辉络等离子体表面冶金用旋转旋转预处理预处理研究
机译:Q235钢上双辉等离子体表面冶金Fe-Al-Cr合金层的高温氧化行为研究。
机译:用双辉等离子表面合金化技术在CVD金刚石薄膜上合成的W金属涂层的温度依赖性
机译:CR-MO渗透源结构对双辉等等离子体表面冶金技术合金层厚度的影响
机译:微波等离子体辅助CVD多晶金刚石膜在较高压力条件下的沉积。
机译:表面等离子体共振和表面等离子体荧光光谱研究底物支撑的磷脂膜
机译:自支撑CVD金刚石电荷状态转换表面,用于对空间等离子体中的低能量中性原子进行高分辨率成像
机译:用于电子封装的金属氧化物中间层金属化CVD金刚石
机译:等离子体CVD结合等离子体离子注入的类金刚石膜三维元件涂层方法及设备
机译:改进的微波等离子体CVD,例如大表面(例如窗玻璃)上的金刚石层的沉积涉及使用一个或多个单独的电子源通过电子发射来使等离子体稳定
机译:微波等离子体CVD装置,使用该等离子体的金刚石的合成方法以及金刚石的合成
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