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低氟MOD法制备Zr掺杂YBCO厚膜的性能研究

         

摘要

提高膜厚是一种常用的提高YBCO涂层超导体导电能力的方法。如何在提高膜厚的基础上抑制薄膜的临界电流密度(Jc)在外场下的迅速下降是实现YBCO涂层导体产业化的关键。本文选用高钉扎效果的Zr掺杂YBCO复合薄膜进行膜厚和性能关系的研究,在LaAlO_3基底上分别通过单次、两次、三次和四次涂覆制备了膜厚分别达200 nm(单层膜)、400 nm(双层膜)、600 nm(三层膜)和800 nm(四层膜)的Zr/YBCO复合薄膜,并详细研究了Zr/YBCO复合薄膜在不同膜厚下的微观结构、表面形貌以及超导性能。研究发现,低氟MOD法在重复涂覆制备厚膜的过程中大大节省了时间,提高了制备效率。此外,通过研究YBCO复合膜的厚度和临界电流的关系,得出如下结果:在厚度不超过600 nm的前提下,随着复合膜厚度的增大,其临界电流保持逐渐增加的趋势。其中,单层薄膜的Jc值最大,达到了3.34 MA/cm^2;三层膜的Jc值达到了1.91 MA/cm^2,其Ic值最大,达到了每厘米带宽114.6 A。

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