95Ar+5H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响

熊芬; 姜思宇; 吴隽; 耿仁杰; 郭才胜; 祝柏林; 姚亚刚; 刘静

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采用射频(RF)磁控溅射在室温下连续逐层沉积,然后在95%Ar+5%H 2混合气氛中进行500℃低温退火制备了Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜,采用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对其结构、组成和表面形貌进行了研究。结果表明:所制备的纳米膜均匀连续,界面紧密且清洁。95%Ar+5%H 2混合气氛中退火能强烈影响顶部MoS2层的形貌并有效去除MoS2中的杂质氧改善其结晶性、稳定性和结构完整性;顶部MoS2层在沉积态时呈细小颗粒状,退火后呈片层状和颗粒状混合形态,特别是引入BN层后促进了其向更大更薄的片状转变,且MoS2薄膜由块状变成类层状结构。另外,电性能表征显示Ag/MoS2具有良好的欧姆接触且电阻率低,引入BN层使得Ag与BN以及BN与MoS2的界面处产生肖特基势垒从而使Ag/BN/MoS2具有整流特性。

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来源
《人工晶体学报》|2019年第12期|2186-2193|共8页
作者
熊芬; 姜思宇; 吴隽; 耿仁杰; 郭才胜; 祝柏林; 姚亚刚; 刘静;
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作者单位

武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,材料与冶金学院,武汉430081;

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州215123;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
Ag/MoS 2; Ag/BN/MoS 2; 连续逐层沉积; 95Ar+5H 2退火;
入库时间 2022-08-20 22:35:29

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