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氧化亚铁硫杆菌的诱变机理研究

         

摘要

研究氧化亚铁硫杆菌(T.f菌)的生长特性以及在紫外线作用下的诱变机理.用20 W的紫外灯对距离30 cm的T.f菌液照射300 s,每间隔15 s测量一次T.f菌液的氧化还原电势以及pH,分别绘制出其与时间的变化关系.紫外线照射240 s时,T.f菌的氧化还原电势和pH分别达到303 mV和1.98的最佳值.研究结果表明,经过紫外线诱变强化的T.f菌具有更好的生物刻蚀能力,氧化亚铁硫杆菌的细菌浓度和氧化活性有较大的提高,刻蚀加工的金属零件轮廓更清晰.

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