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黄正峰; 申思远; 王志;
合肥工业大学电子科学与应用物理学院;
锁存器; 软错误; 单粒子效应; 工艺偏差;
机译:15mm工艺的低功耗软错误锁存器设计
机译:在工艺变化的情况下,针对纳米级CMOS技术的低成本软错误硬化锁存器设计
机译:16 nm和7 nm FinFET工艺中的高速脉冲DICE锁存器设计的软错误性能
机译:采用0.18μmCMOS技术的电流模式逻辑锁存器和预分频器设计优化。
机译:0.18 µm CMOS工艺中的高速,低偏移动态锁存比较器的设计
机译:软错误过滤和硬化锁存器
机译:sa3300微处理器中的设计和电阻硬化D锁存器的sEU响应。
机译:时钟米勒锁存器设计提高了软错误率
机译:基于磁滞的锁存器设计具有较低的面积/性能开销,可提高软错误率
机译:基于磁滞的锁存器设计可改善软错误率,并降低面积/性能开销
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