头部电阻抗成像正问题的解析解研究

徐征; 何为; 何传红; 张占龙

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建立头颅的球型仿真模型.用头皮、颅骨、脑脊髓和脑组织四层同心球结构模拟头颅.对各层组织采用复数电导率,用分离变量法分析头颅球模型在最外层(头皮层)表面施加点电流激励的情况下,内层的电位分布.根据电位分布的表达式,绘制出颅内的电位等位线图.分析电流注入角度对电位分布的影响.仿真结果表明,当颅内脑组织电导率变化时,头皮表面电位的实部变化明显大于虚部,激励电流频率变化对头皮表面电位虚部的影响较为明显.研究结果可用于分析头部电阻抗成像问题.

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来源
《计算物理》 |2010年第1期|107-114|共8页
作者
徐征; 何为; 何传红; 张占龙;
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作者单位

重庆大学电气工程学院输配电装备及系统安全与新技术国家重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类电磁测量;
关键词
解析解; 分离变量法; 头部电阻抗成像;

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